您现在的位置: 首 页 > 仪器设备 > 仪器介绍 > 物理平台

多靶磁控溅射镀膜机(JCP-350)

时间:2018-10-23 16:32      发布人:廖燕菲      阅读:14

QQ图片20181023163029

负责人:王剑斌

放置地点:超净室

  1. 设备简介

北京泰科诺科技有限公司生产的JCP-350系列的多靶磁控溅射镀膜机是一种经长期实践检验、性能优良的科研和生产两用型设备,可以生长Al、Ni、Mo、Ta、Cr等金属薄膜,以及通过反应性溅射加工ITO、ZnO薄膜;。该系列设备配2只以上的磁控靶,具有多靶分时/同时溅射功能,可制备多层膜和复合膜。该系列设备主要用来开发纳米级单层及多层的导电膜(含镍、钴磁性膜)、半导体膜以及绝缘膜等,广泛应用于高校、科研院所和企业的教学、科研。

  1. 设备参数
  • 射频电源2台(500VA);直流电源1台 (1KVA)。
  • 真空腔室尺寸:Φ350×H400mm,三个靶座。载片架可旋转。
  • 本底真空度优于0×10-5Pa。
  • 从常压抽到1×10-4Pa,时间不超过60分钟(1h内能到5×10-4Pa)
  • 基片烘烤温度,室温~500℃,可调可控
  • 均匀性误差:≤ ±(5~5.0)%