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曝光机 Lithography Machine

时间:2015-11-25 11:31      发布人:廖燕菲      阅读:270

曝光机3

设备简介

该设备用掩模板掩模,通过紫外线照射涂敷于玻璃基板上的光刻胶,使掩模板没有图形遮蔽的部分被紫外光照而改性,再通过显影得到所需的电路图形。曝光机是黄光制程的关键设备,其对准精度、曝光均匀性等很大程度上决定了黄光制程的质量。

设备主要参数

最大基板尺寸:200mm*200mm

光源功率:1000W

曝光均匀性:±5%

曝光模式:接近曝光、软接触、硬接触、真空接触

分辨率:≤0.6μm(真空接触),≤0.8μm(硬接触)

对准精度:3δ≤0.25μm